日立分析儀器是日立高新技術集團于2017年7月組建的全球性公司。該公司總部位于英國牛津，其在芬蘭、德國和中國設立有研發中心和組裝工廠，并在全球多個國家建立有銷售和支持機構。其產品類別包括：移動式和臺式OES金屬分析儀、-手持式XRF光譜儀和LIBS激光光譜儀、微焦斑XRF鍍層測厚儀、多功能臺式XRF光譜儀、熱分析儀等。
有的放矢，亮相鑄造博覽會
近日，第十八屆中國國際鑄造博覽會在上海召開，日立分析儀器攜帶多款產品亮相。其中一款最具開創性的OE750型新型直讀光譜儀引起了記者的注意，據了解該款光譜儀可用于鑄造廠和金屬生產中要求嚴格的金屬規格分析。
由于復雜的供應鏈，以及作為基礎材料使用的廢舊金屬數量的增加，鑄造廠和金屬制造商在控制熔體中的雜質和痕量元素時，面臨著更多的壓力。新型OE750型直讀光譜儀具有前所未有的性能水平。它涵蓋金屬中所有元素的光譜，并實現對某些元素的最低檢出限。因此，此款分析儀具備價格高昂的同類儀器所能提供的功能水平，可為眾多鑄造廠和金屬制造商提供優質分析。
OE750實現高分辨率和寬動態范圍要歸功于采用了先進CMOS探測器技術的革命性新光學理念。其中有四項專利正處于申請狀態。因此，這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍；這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當今嚴格的金屬規格分析至關重要，該分析儀可以滿足新的ASTM E415標準中關于碳鋼和低合金鋼的試驗方法的要求。
OE750是鋁鑄件的理想光譜儀，因為它可以測定亞共晶和過共晶鋁硅合金中含量極低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉，以及雜質和痕量元素，從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中，以優化結構改造。創新性光學設計能實現更短的啟動時間，因為光學系統的體積相對較小。這有助于那些需要在多點測量驗證熔體質量的工廠實現高批量生產。
除了新的光學設計之外，OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術特性。它有一個新的密封火花臺，具有優化層流設計，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的獨特中壓系統可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。
除創新性硬件技術外，新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號數據庫，該數據庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標準，減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤？蛇x的爐料校正軟件會自動計算添加至熔體中的正確材料量，使其符合規范。
檢出限在金屬質量控制中的重要作用
日立新型OE750火花光譜儀能夠以非常低的檢出限測量整個金屬元素譜。業界普遍認為檢測限全面低于10 ppm或高于1 ppm（取決于應用和元素）對于當今的金屬質量控制至關重要。
殘留元素的識別和控制
雖然，混合物中的殘留元素未列入產品規范中，但仍需對其進行仔細監控。這在使用廢料作為原材料的情況下尤其重要，因為廢金屬是殘余金屬的重要來源。這些元素的存在會對成品的性能產生顯著影響，有些產品的敏感度比其他產品更高，如低碳鋼和低合金鋼。
最常見的殘留物是銅、鎳、鉻、鉬和錫。比如，錫會增加鋼的強度和硬度，但會降低鋼的延展性、抗沖擊性和應變硬化能力。錫的存在還會影響加工條件，如再結晶，且可能會導致晶界脆化。
痕量元素的控制
基本上，痕量元素的控制符合合金牌號的規格。比如，添加少量的硼（少至3ppm）可提高碳鋼的淬透性。然而，一旦超出該含量，硼會從鋼中分離出來并沉淀在晶界上，從而降低鋼的淬透性、可焊性、韌性，并導致脆化。鑒于微量的硼對材料具有如此重大的影響，因此必須非常仔細地監控硼的含量。
控制熔體化學性質
控制熔體化學性質指的是控制鑄造過程中所添加的能影響結構的元素，例如鑄鐵中的孕育元素或鋁鑄件中的改性劑。這些元素的含量通常必須控制在10 ppm以下。
再如，在鋁鑄件中，鍶和鈉用作改性劑，可去除磷化鋁（硅的成核劑）并改善結構的延展性。然而，這些改性劑會因磷、銻和鉍的存在而受到影響。為了確保改性劑正常發揮作用，必須監測和控制磷族元素的含量。
OE750火花光譜儀能夠分析鋼、鐵和鋁應用中的所有合金元素、痕量元素、殘留元素和雜質元素，可為鑄造廠、金屬加工公司和回收設施提供高精度現場分析。
結語
隨著中國制造2025、工業4.0概念在中國制造業的落地和基礎設備的升級，日立分析儀器在不斷探索和創新，在新產品研發的同時跟進服務端工作質量……錨定蓬勃發展的中國市場，日立分析儀器將持續為行業提供創新思路，結合中國實際情況提供新的解決方案，為中國的先進制造、智能制造事業助一臂之力。